euv光刻机出现时间 ASML研发新一代EUV光刻机
euv光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm euv工艺。
数据显示，全球euv光刻机的安装量应该在140台，目前euv光刻机的出货量不高，2021年仅为42台，占asml全年光刻机出货量的1/7。
无论是先进制程芯片还是成熟制程芯片，都离不开光刻机这一重要设备，特别是高端的euv光刻机。据相关报道，asml正在研发新一代更先进的高数值孔径euv光刻机，预计在2023年完成制作，2025年进行应用。
在光刻机领域，目前有三大核心技术，分别是光源、双工作台和光学物镜。同时，euv光刻机本身就属于高端科技产品，光有技术其实也不够，还应该要有充足的，大量的资金。
目前我国芯片领域重点方向还在于技术上弯道超车另辟蹊径，包括超分辨光刻，ssmb，积累在光刻芯片领域空白，积累自身经验，发展芯片领域企业群体。
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