关于宽带隙半导体与硅的对比分析

50多年前硅(si)集成电路的发明意义重大,为我们当前所享受的现代计算机和电子产品时代铺平了道路。但是正如俗话所说,天下没有不散的筵席,现在存在疑问的是,硅在半导体行业的霸主地位将何时终结?据摩尔定律预测,一个芯片上集成的晶体管数量大约每两年翻一番。对于传统的硅计算来说,摩尔定律不可能无限期持续,主要因为封装如此大量晶体管而导致的散热问题,以及工艺持续缩放而带来泄漏问题。同样,在功率电子领域,为满足市场需求,使用硅的新器件年复一年地实现更大的功率密度和能效,已经越来越成为一个巨大的挑战。从本质上讲,芯片的演进已经接近其基础物理极限。
根据一些专家的说法,留给我们榨取硅潜能的时间只有不到十年了,到时将迎来其理论极限。在计算方面,仍采用了诸多努力,如纳米技术和三维芯片,来延长硅的摩尔定律周期,尽管目前已经有了后硅时代的其它选择:分子计算和量子计算。在功率半导体方面,碳化硅(sic)和氮化镓(gan),两者都是宽带隙(wbg)半导体,已经成为进步有些放缓的高功高温硅细分市场的首选方案。
以氮化镓(gan)、碳化硅(sic)和氧化锌(zno)为代表的宽禁带半导体是继硅和砷化镓(gaas)之后的第三代半导体材料,具有高击穿电场、高饱和电子速度、高热导率、高电子密度、高迁移率等特点,可实现高压、高温、高频、大功率、抗辐射微波毫米波器件和短波长光电半导体器件。宽禁带半导体是新一代雷达、通信、电子对抗系统最关键的半导体器件,也是新一代半导体照明关键的器件。
因为具备比硅高出约10倍的传导和开关特性,wbg材料是功率电子的最佳选择,可以生成更小、更快、更高效的器件,相对于硅器件,这种wgb器件承受的电压和温度都更高。这些特性,连同更好的耐用性和更高的可靠性一起,促使wbg功率器件成为当前重要新兴应用的关键助燃剂,如混动汽车、电动汽车以及可再生能源发电和存储。 wbg功率器件还可以提升现有应用表现,特别是在效率增益方面。 yole developpment研究估计,采用sic或者gan取代硅可将dc-dc的转换效率从85%增加到95%;将ac到dc的转换效率从85%提高至90%;并将dc到ac转换效率从96%优化到99%。
rf应用也将受益于wbg半导体。不仅要包括爆炸式增加的移动设备应用,如智能手机和平板,而且还有进入家庭在线流媒体,这一现象创造了更多的用户和更多的数据,已经越来越普及并成为全球潮流。日益庞大的流量导致对无线和电信系统的性能需求的递增。这也难怪,基于硅的rf功率晶体管正在达到的功率密度、击穿电压和工作频率的上限。氮化镓推动了先进性能高电子迁移率晶体管(hemt器件)和单片微波集成电路(mmic)的发展,它们可用于高性能rf应用,而更小的栅极电容等效于更快的速度和更大的带宽。
wbg材料也可以发光,这种光属性助推了近年来wbg半导体的快速发展。事实上,固态照明行业正在使用基于gan的发光二极管(led),来成为白炽灯泡的替代品,因为后者在节能、耐用、寿命方面表现更佳,这种高效也会促进led照明在未来几年销售的大规模增长,预计在2018年销售量将超越白炽灯。led照明还为紧凑型荧光灯(cfl)灯泡提供了无汞替代品。氮化镓也可用于激光二极管,目前最常见到的实现是蓝光播放器。
图1
宽带隙的定义
之所以被称为wbg材料,主要是因为较之于常见硅,它们的能量带隙相对更宽。电子带隙是指固体材料的价带顶端和导带底端的能量间隙。电子可以通过热或光激励等方式跨越带隙到达导带。一些材料没有带隙,但带隙的存在使得半导体器件部分表现为导体特征,而这正是其名称“半导体”所暗示。
正是由于带隙,使得半导体具备开关电流的能力,以实现给定的电子功能;毕竟,晶体管仅仅是嵌入在硅基衬底上的微型开关。更高的能量带隙赋予了wbg材料优于硅的半导体特性。 相较于硅器件,wbg器件可以在较小的尺寸上忍耐高得多的运行温度,也激发了新型应用的出现。目前流行的wbg应用材料是碳化硅(sic)和氮化镓(gan)。
硅具有1.1电子伏特(ev)的带隙,而sic和gan则分别具有3.3 ev和3.4 ev的带隙。绝缘体材料具有非常大的带隙,典型值比4电子伏特(ev)还大,以及具备更高的电阻率。一般情况下,除了应用于钻石,否则它们不如半导体有用。虽然技术上来说,具有5.5ev带隙的砖石更应该是绝缘体,但实际上它却是半导体。

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