芯片产业还有很长一段路要走
在日前于美国硅谷举行的美国半导体产业协会（sia）年度晚宴上，来自半导体大厂的资深高层们表示，芯片产业还有很长一段路要走，却面临了吸引顶尖工程师的真正挑战；此外一位微影技术专家展示了可望在下一个十年继续推动摩尔定律（moore’s law）前进的一套新系统。
晶圆代工大厂台积电（tsmc）董事长张忠谋在sia年度晚宴的一场与其他产业界高层同台的座谈会上，对半导体制程节点继续微缩表示乐观；不过他也建议，芯片产业逐渐迈向成熟，年轻一代的电子工程师可以朝向软件、电脑科学以及网际网路等相关领域寻求未来发展。
“对晶圆厂工程师的人力需求会维持相当稳定好一段时间，”张忠谋表示：“我们对更高密度制程的努力还会至少持续另一个十年，一直到2020年代中期、3nm节点─ ─我认为我们至少将走到那么远。”
另一位参与座谈会的产业高层，adi共同创办人ray stata则表示，电子工程领域正笼罩危机，但在芯片制程微缩之外仍有科技进展的希望：“ee部门正在萎缩，但我们还是需要受过训练的人员；而我们面临的挑战之一，就是无法获得像以前那么多的ee工程师人才。因此产业界可能需要承担更多教育的责任，并且直接与各大专院校面对面，让他们了解产业界需求。”
stata指出，在美国麻省理工学院（mit）有一个育成中心，就是协助支持对半导体新创公司的投资；这位已经转任投资人的前任半导体业高层表示，现有技术在系统层级的结合，将有助于让以往聚焦于零组件的电子产业界更进步：“智能手机已经存在了…但模拟领域还在过渡时期的中途。”
英特尔（intel）前任ceocraig barrett则是与会者中对未来最乐观的。“电子与光子的结合才刚刚开始，而且那里有非常大的商机；”他指出：“电子与生物的结合甚至还没有开始──到处都有无限的商机。”
“当我加入intel的时候，人们就说摩尔定律已经快走到尾声，我们一直都只有3~4代的技术进展空间；”barrett表示：“总有人将会搞清楚如何做出下一代的电子开关，而且将改变世界；因此就像是robert noyce （intel共同创办人）说的，忘掉历史、走出去，做一些美妙的事。”
而获得sia年度noyce奖项的半导体设备大厂asml技术长martin van den brink则在会后透露，该公司承诺在2024年推出具备0.45 penta-pixels/second性能的极紫外光（euv）微影系统； asml最近宣布将推出的高数值孔径系统，一小时可生产200片晶圆。
相较之下，在1958年制造出来的第一颗ic，所采用的微影技术只能印制50 pixels的图案；van den brink表示，那时候asml已经成立，而他在1984年加入该公司时，微影技术的性能已经达到61 mpixels/second：“摩尔定律不会停止，因为我们有聪明的工程师正在尝试继续推动产业界向前迈进。”
ibm的感知系统部门资深副总裁暨研究员johnkelly iii在授予van den brink先进微影技术奖项时表示：“没有他，我们恐怕无法让摩尔定律走得这么远，也无法对迈进7nm或以下节点抱着希望；martin以及他的公司现在面临的最大风险与最重要工作是euv，而该技术在过去几年的进展令人惊叹。”
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stata指出，在美国麻省理工学院（mit）有一个育成中心，就是协助支持对半导体新创公司的投资；这位已经转任投资人的前任半导体业高层表示，现有技术在系统层级的结合，将有助于让以往聚焦于零组件的电子产业界更进步：“智能手机已经存在了…但模拟领域还在过渡时期的中途。”
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而获得sia年度noyce奖项的半导体设备大厂asml技术长martin van den brink则在会后透露，该公司承诺在2024年推出具备0.45 penta-pixels/second性能的极紫外光（euv）微影系统； asml最近宣布将推出的高数值孔径系统，一小时可生产200片晶圆。
相较之下，在1958年制造出来的第一颗ic，所采用的微影技术只能印制50 pixels的图案；van den brink表示，那时候asml已经成立，而他在1984年加入该公司时，微影技术的性能已经达到61 mpixels/second：“摩尔定律不会停止，因为我们有聪明的工程师正在尝试继续推动产业界向前迈进。”
ibm的感知系统部门资深副总裁暨研究员johnkelly iii在授予van den brink先进微影技术奖项时表示：“没有他，我们恐怕无法让摩尔定律走得这么远，也无法对迈进7nm或以下节点抱着希望；martin以及他的公司现在面临的最大风险与最重要工作是euv，而该技术在过去几年的进展令人惊叹。”
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