英特尔与日本印刷公司合作开发0.13微米光掩模
东京 - 英特尔公司和大日本印刷公司今天宣布共同开发先进的光掩模技术微处理器公司采用0.13微米工艺技术。
目前，英特尔继续将现有的微处理器产品推向0.18微米的设计规则，并计划在2001年开始使用0.13微米技术。英特尔预计将在200毫米晶圆上使用0.13微米微处理器，在2002年的时间内在更大的300毫米直径基板上使用下一代工艺。
“推进光掩模技术的最新技术英特尔技术与制造集团高级副总裁兼总经理迈克尔斯普林特表示，英特尔继续保持半导体领先地位，该公司总部位于加利福尼亚州圣克拉拉市。“开发此功能对我们未来处理器的产量和性能至关重要。”
今天最先进的工艺需要20多个光掩模才能生产复杂的ic。
有关日本印刷与英特尔之间财务安排的详细信息尚未披露。
2019年区块链行业发生的各大事件回顾
真正的“家庭影院”体验感 四款热门4K投影仪体验
LCD液晶屏幕增亮的秘密(专家解说)
2020 云存储助力IT新基建
明年DRAM的价格将飞涨 现在看来还不一定
英特尔与日本印刷公司合作开发0.13微米光掩模
怎么计算电阻箱的不确定度？电阻箱读数方法
BT321F蓝牙音频主机发射连接TWS耳机回连和主动连接的说明
注射针针尖刺穿力测试仪技术指标请查收！
大兴机场将开通116条航线并在2022年北京冬奥会之前完成转场工作
3D芯片堆栈技术解决数据中心分析数据量增长速度问题
英飞凌推出新款高能效IPOL DC-DC降压稳压电源模块
知名厂商大啖可穿戴商机 新一轮芯片热战即将引爆
静态分析：对代码质量至关重要
基于计算机视觉领域中的特征检测和匹配研究
电机定子槽满率是否越高越好？
5g技术会带来哪些问题 5g技术应用于哪些领域
三星和台积电将在扇出型封装展开大战
微生物致病菌检测仪使用说明
下一代iPhone或将支持第三方软件多任务处理
目前，英特尔继续将现有的微处理器产品推向0.18微米的设计规则，并计划在2001年开始使用0.13微米技术。英特尔预计将在200毫米晶圆上使用0.13微米微处理器，在2002年的时间内在更大的300毫米直径基板上使用下一代工艺。
“推进光掩模技术的最新技术英特尔技术与制造集团高级副总裁兼总经理迈克尔斯普林特表示，英特尔继续保持半导体领先地位，该公司总部位于加利福尼亚州圣克拉拉市。“开发此功能对我们未来处理器的产量和性能至关重要。”
今天最先进的工艺需要20多个光掩模才能生产复杂的ic。
有关日本印刷与英特尔之间财务安排的详细信息尚未披露。
2019年区块链行业发生的各大事件回顾
真正的“家庭影院”体验感 四款热门4K投影仪体验
LCD液晶屏幕增亮的秘密(专家解说)
2020 云存储助力IT新基建
明年DRAM的价格将飞涨 现在看来还不一定
英特尔与日本印刷公司合作开发0.13微米光掩模
怎么计算电阻箱的不确定度？电阻箱读数方法
BT321F蓝牙音频主机发射连接TWS耳机回连和主动连接的说明
注射针针尖刺穿力测试仪技术指标请查收！
大兴机场将开通116条航线并在2022年北京冬奥会之前完成转场工作
3D芯片堆栈技术解决数据中心分析数据量增长速度问题
英飞凌推出新款高能效IPOL DC-DC降压稳压电源模块
知名厂商大啖可穿戴商机 新一轮芯片热战即将引爆
静态分析：对代码质量至关重要
基于计算机视觉领域中的特征检测和匹配研究
电机定子槽满率是否越高越好？
5g技术会带来哪些问题 5g技术应用于哪些领域
三星和台积电将在扇出型封装展开大战
微生物致病菌检测仪使用说明
下一代iPhone或将支持第三方软件多任务处理