近年来,在人工智能(ai)、5g等推动下,以mram(磁阻式随机存取存储器)、铁电随机存取存储器(fram)、相变随机存取存储器(pram),以及可变电阻式随机存取存储器(rram)为代表的新兴存储技术逐渐成为市场热点。这些新技术吸引各大晶圆厂不断投入,最具代表性的厂商包括台积电、英特尔、三星和格芯(globalfoundries)。
那么,这些新兴存储技术为什么会如此受期待呢?主要原因在于:随着半导体制造技术持续朝更小的技术节点迈进,传统的dram和nandflash面临越来越严峻的微缩挑战,dram已接近微缩极限,而nandflash则朝3d方向转型。
此外,传统存储技术在高速运算上也遭遇阻碍,处理器与存储器之间的“墙”成为了提升运算速度和效率的最大障碍。特别是ai的发展,数据需求量暴增,“墙”的负面效应愈加突出,越来越多的半导体厂商正在加大对新兴存储技术的研发和投资力度,寻求成本更佳、速度更快、效能更好的存储方案。
从目前来看,最受期待的就是mram,各大厂商在它上面投入的力度也最大。mram属于非易失性存储技术,是利用具有高敏感度的磁电阻材料制造的存储器,断电时,mram储存的数据不会丢失,且耗能较低,读写速度快,可媲美sram,比flash速度快百倍,在存储容量方面能替代dram,且数据保存时间长,适合高性能应用。
mram的基本结构是磁性隧道结,研发难度高,目前主要分为两大类:传统mram和stt-mram,前者以磁场驱动,后者则采用自旋极化电流驱动。
另外,相较于dram、sram和nandflash等技术面临的微缩困境,mram可满足制程进一步微缩需求。目前,dram制程工艺节点为1xnm,已接近极限,而flash走到20nm以下后,就朝3d制程转型了。mram制程则可推进至10nm以下。
诸神争霸
在过去几年里,包括台积电、英特尔、三星、格芯等晶圆代工厂和idm,相继大力投入mram研发,而且主要着眼于stt-mram,也有越来越多的嵌入式解决方案诞生,用以取代flash、eeprom和sram。
台积电
早在2002年,台积电就与中国台湾地区工研院签订了mram合作发展计划。近些年,该公司一直在开发22nm制程的嵌入式stt-mram,采用超低漏电cmos技术。
2018年,台积电进行了emram芯片的“风险生产”,2019年生产采用22nm制程的ereram芯片。
2019年,台积电在嵌入式非易失性存储器技术领域达成数项重要的里程碑:在40nm制程方面,该公司已成功量产split-gate(nor)技术,支持消费类电子产品应用,如物联网、智慧卡和mcu,以及各种车用电子产品。在28nm制程方面,该公司的嵌入式快闪存储器支持高能效移动计算和低漏电制程平台。
在isscc2020上,台积电发布了基于ull22nmcmos工艺的32mb嵌入式stt-mram。该技术基于台积电的22nmull(ultra-low-leakage)cmos工艺,具有10ns的极高读取速度,读取功率为0.8ma/mhz/bit。对于32mb数据,它具有100k个循环的写入耐久性,对于1mb数据,具有1m个循环的耐久性。它支持在260°c下进行90s的ir回流焊,在150°c下10年的数据保存能力。它以1t1r架构实现单元面积仅为0.046平方微米,25°c下的32mb阵列的漏电流仅为55ma。
目前,台积电已经完成22nm嵌入式stt-mram技术验证,进入量产阶段。在此基础上,该公司还在推进16nm制程的stt-mram研发工作。
除了mram,台积电也在进行着reram的研发工作,并发表过多篇基于金属氧化物结构的reram论文。
本周,台湾地区工研院电光所所长吴志毅表示,由于新兴存储技术将需要整合逻辑制程技术,因此现有存储器厂商要卡位进入新市场,门槛相对较高,而台积电在这方面具有先天优势,因为该公司拥有很强的逻辑制程生产能力,因此,台积电跨入新兴存储市场会具有竞争优势。
据悉,台湾地区工研院在新兴存储技术领域研发投入已超过10年,通过元件创新、材料突破、电路优化等方式,开发出了更快、更耐久、更稳定、更低功耗的新一代存储技术,目前,正在与台积电在这方面进行合作。未来,台积电在新兴存储器发展方面,工研院将会有所贡献,但具体内容并未透露。
三星
三星在mram研发方面算是起步较早的厂商,2002年就开始了这项工作,并于2005年开始进行stt-mram的研发,之后不断演进,到了2014年,生产出了8mb的emram。
三星foundry业务部门的发展路径主要分为两条,从28nm节点开始,一条是按照摩尔定律继续向下发展,不断提升finfet的工艺节点,从14nm到目前的7nm,进而转向下一步的5nm。
另一条线路就是fd-soi工艺,该公司还利用其在存储器制造方面的技术和规模优势,着力打造emram,以满足未来市场的需求。这方面主要采用28nm制程。
三星28nm制程fd-soi(28fds)嵌入式nvm分两个阶段。第一个是2017年底之前的电子货币风险生产,第二个2018年底之前的emram风险生产。并同时提供eflash和emram(stt-mram)选项。
该公司于2017年研制出了业界第一款采用28fds工艺的emram测试芯片。
2018年,三星开始在28nm平台上批量生产emram。2019年3月,该公司推出首款商用emram产品。据悉,emram模块可以通过添加三个额外的掩膜集成到芯片制造工艺的后端,因此,该模块不必要依赖于所使用的前端制造技术,允许插入使用bulk、finfet或fd-soi制造工艺生产的芯片中。三星表示,由于其emram在写入数据之前不需要擦除周期,因此,它比eflash快1000倍。与eflash相比,它还使用了较低的电压,因此在写入过程中的功耗极低。
2018年,arm发布了基于三星28fds工艺技术的emram编译器ip,包括一个支持18fds(18nmfd-soi工艺)的emram编译器。这一平台有助于推动在5g、ai、汽车、物联网和其它细分市场的功耗敏感应用领域的前沿设计发展。
2019年,三星发布了采用28fds工艺技术的1gb嵌入stt-mram。基于高度可靠的emram技术,在满足令人满意的读取,写入功能和10年保存时间的情况下,可以实现90%以上的良率。并且具备高达1e10周期的耐久性,这些对于扩展emram应用有很大帮助。
2019年底,mentor宣布将为基于arm的emram编译器ip提供ic测试解决方案,该方案基于三星的28fds工艺技术。据悉,该测试方案利用了mentor的tessentmemorybist,为sram和emram提供了一套统一的存储器测试和修复ip。
globalfoundries
2017年,时任globalfoundries首席技术官的garypatton称,globalfoundries已经在其22fdx(22nm制程的fd-soi工艺技术)制程中提供了mram,同时也在研究另一种存储技术。
由于globalfoundries重点发展fd-soi技术,特别是22nm制程的fd-soi,已经很成熟,所以该公司的新兴存储技术,特别是mram,都是基于具有低功耗特性的fd-soi技术展开的。
今年年初,globalfoundries宣布基于22nmfd-soi平台的emram投入生产。该emram技术平台可以实现将数据保持在-40°c至+125°c的温度范围内,寿命周期可以达到100,000,可以将数据保留10年。该公司表示,正在与多个客户合作,计划在2020年安排多次流片。
据悉,该公司的emram旨在替代nor闪存,可以定期通过更新或日志记录进行重写。由于是基于磁阻原理,在写入所需数据之前不需要擦除周期,大大提高了写入速度,宏容量从4-48mb不等。
英特尔
英特尔也是mram技术的主要推动者,该公司采用的是基于finfet技术的22nm制程。
2018年底,英特尔首次公开介绍了其mram的研究成果,推出了一款基于22nmfinfet制程的stt-mram,当时,该公司称,这是首款基于finfet的mram产品,并表示已经具备该技术产品的量产能力。
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