DUV可解燃眉之急,自研之路仍要走

asml的euv光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,euv光刻机必不可缺。一台euv光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元。媒体称,台积电采购的euv光刻机已经超过30台,三星累计采购的euv光刻机不到20台。
围绕芯片制造要用到的关键设备——光刻机,一直不缺话题。
比如,一台euv光刻机卖多少钱?谁买走了这些euv光刻机?大陆厂商还能买到光刻机吗?为何三星高管最近跑去荷兰拜访asml总部?
上面这几个问题,其实可以在asml和台积电最新发布的三季报及业绩说明会中找到部分答案。两家公司的地位无需多言,前者是全球顶级光刻机龙头,后者是全球芯片制造龙头。
关于售价,asml总裁兼首席执行官彼得·韦尼克(peter wennink)10月14日介绍公司三季度业绩情况时间接给出了答案。他表示,“我们第三季度的新增订单达到29亿欧元,其中5.95亿欧元来自4台euv设备。”简单换算一下,一台euv光刻机的售价为1.48亿欧元,折合人民币高达11.74亿元。
这是什么概念?2019年,a股还有1462家上市公司的营业收入低于11.74亿元。换句话说,asml每年卖一台euv光刻机,收入就可完胜a股的1/3公司。
售价这么高,asml根本不愁买家,公司愁的是产能跟不上需求。
asml的euv光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备,其中10nm及以下的芯片制造,euv光刻机必不可缺。
据了解,euv光刻机不需要多重曝光,一次就能曝出想要的精细图形,没有超纯水和晶圆接触,在产品生产周期、光学邻近效应矫正的复杂程度、工艺控制、良率等方面都有明显优势。
asml的euv光刻机也在推陈出新。公司10月14日还公布了euv路线图上的新机型twinscannxe:3600d的最终规格,曝光速度达到每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产效率,计划于2021年的中期开始发货。
芯片大厂争购
asml的euv光刻机在2016年正式上市,主要供应给英特尔、台积电和三星这三家大客户。其euv光刻机出货量一直在增加,从2016年的5台上升到2019年的26台。
目前,台积电已将可量产的工艺推到5nm,大幅领先英特尔和三星;同时,按照计划,公司3nm工艺将在明年试产,2022年下半年正式量产。重要的是,客户对其7nm工艺和5nm工艺的需求十分强劲,这两项工艺的收入占比在三季度已达43%。因此,台积电对euv光刻机的需求无疑也是最强劲的。
图片来源:台积电三季报
近期有媒体报道,由于先进工艺推进顺利和订单扩大,台积电将加大euv光刻机的采购力度,预计到2021年底采购量至55台左右。台积电方面回复中国证券报记者采访时表示,公司不评论市场传闻。前述媒体援引半导体供应链消息称,台积电采购的euv光刻机已经超过30台,三星累计采购的euv光刻机不到20台。
在asml发布2020年第三季度财报当天,首席财务官罗杰·达森(roger dassen)接受视频采访时被问及美国的半导体出口禁令对asml的业务有何种影响,达森回应称,他们注意到了美方的禁令,也意识到了禁令对中国客户的影响。
随后达森对asml的光刻机出口问题作出了解释,他说:“如果要解释一下美国的规定对asml有什么影响的话,对于的中国客户,我们还是可以直接从荷兰向他们出口duv光刻机,无需任何出口许可。”
但他随后也补充称,如果相关系统或零件是从美国出口的,那这些设备仍然需要得到美方的许可。
达森表示,asml将尽最大努力,尽可能为所有客户继续提供服务和支持。
根据公开的财报电话会议录音,韦尼克也在会议上确认了这一点。韦尼克称,根据当前美国的规定,直接从荷兰向中国出口的duv光刻机不受影响。
但达森和韦尼克都强调的是duv光刻机出口,并未提到更先进的euv(极紫外)光刻机。彭博社14日在报道中也强调,duv的规则不适用于euv光刻机。asml必须获得许可证才有可能向中国企业出口euv光刻机。但荷兰政府已经暂缓了euv光刻机出口许可,一直到现在都没有批准。
“尽管被夹在中美之间,asml仍积极努力”
euv光刻机和duv光刻机有什么不同?
那就是中低端与高端的区别。
根据曝光源的不同,光刻机分为euv型(极深紫外线)、duv型(深紫外线)。从制程范围来看,duv基本上只能做到25nm,而euv能满足10nm以下的晶圆制造需求。
有网友直呼:duv光刻机是二等品,自然不用受限。
euv光刻机则是实现7nm的关键设备,如果中国大陆无法引入asml的euv光刻机,则意味着大陆将止步于7nm工艺。
目前中芯国际订购了一台euv。价格贵,但不是只买一台的唯一原因,而是买多了,现在真用不上。
有微电子博士解析,就这一台,还是着眼于两三代技术节点之后的产品研发(14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm)。必须要用euv的,是5nm以及以下,直到7nm,duv都够用。
三星,英特尔和台积电疯抢euv,是因为他们目前就要用。三星和台积电都已经开始攻坚3nm了。而中芯国际,在logic device领域,确实还是第二梯队的,下一代和下下代研发,都不是非euv不可,duv完全够用。需要多沉下心来多琢磨光刻工艺。
根据asml发布的财报,2020年第三季度asml光刻机净销售额达31亿欧元,中国大陆市场的营收占到21%。第三季度asml总计净销售额达到约40亿欧元,净收入近11亿欧元。值得一提的是,euv光刻机的收入占比极高,贡献了66%的光刻机销售额。
今年5月,asml与无锡高新区签署了战略合作协议,在无锡高新区内扩建升级阿斯麦光刻设备技术服务(无锡)基地。此前,asml已在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司,为客户提供服务和咨询,其中深圳是其在亚洲最大的软件研发中心。
asml垄断着全球光刻机市场,但核心资本仍握在美国手里。所以,虽然消息是好消息,但现实情况可能是,duv可解燃眉之急,自研之路仍要走。

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