日本富士通公司深度解析氮化镓高电子迁移率晶体管

12月6日至9日美国加利福尼亚州的ieee半导体接口专家会议(sisc2017)上,日本富士通公司及其子公司富士通实验室公司(fujitsu laboratories ltd)介绍了据称是第一个室温下实现单晶金刚石和碳化硅(sic)衬底焊接,关键是这两者都是硬质材料,但具有不同的热膨胀系数。
使用这种技术散热可以高效率地冷却高功率氮化镓(gan)高电子迁移率晶体管(hemt),从而使功率放大器在高功率水平下稳定工作。
传统gan hemt——sic衬底散热 近年来,高频gan-hemt功率放大器已被广泛用于雷达和无线通信等远程无线电领域,预计还将用于天气雷达观测局部暴雨,或者即将出现的5g毫米波段移动通信协议。对于这些使用微波到毫米波频段雷达或无线通信系统,通过提高用于传输的gan-hemt功率放大器的输出功率,无线电波能够传播的距离将增大,可扩展雷达观测范围,实现更远和更高容量的通信。
图1传统gan hemt功率放大器
图1中,gan hemt功率放大器的一些输入功率会转化成热量,然后分散到sic沉底。由于提高雷达和无线通信的射程和功率也增加了器件产生的热量,这对其性能和可靠性产生不利影响,因此需要将器件热量有效地传输到冷却结构(散热片)。
金刚石-sic散热 尽管sic衬底具有相对较高的导热率,但是对于具有越来越高的功率输出的器件而言,需要具有更好的导热率的材料以有效地将器件热量运送到冷却结构。 单晶金刚石具有非常好的导热性-几乎是sic衬底的5倍 - 被称为可以有效散热的材料。
金刚石-sic键合方法 为了将单晶金刚石键合到作为冷却材料的器件上,正常的生产过程使用氩(ar)束去除杂质,但这会在表面形成低密度的受损层,这会削弱单晶金刚石可能形成的键合。此外,使用诸如氮化硅(sin)的绝缘膜用于键合,由于sin存在热阻会削弱导热性。
为了防止ar束在金刚石表面形成损伤层,富士通开发了一种技术,在暴露于ar束之前用极薄的金属膜保护表面(见图2)。 为了确保表面是平面的(为了在室温下良好的键合),金属膜的厚度需限制在10nm或更薄。
图2与金刚石键合的gan hemt功率放大器结构
这种技术被证实可以防止ar束暴露后在金刚石表面形成损伤层(图3),从而提高了键合强度,从而使得单晶金刚石在室温下与sic衬底键合。
图3 ar束暴露后的金刚石截面
热阻测试结果 在室温下测量了粘样品的热阻,发现sic /金刚石界面的热阻极低,为6.7×10-8m2k/w。使用这一测量参数进行的仿真表明,该技术将显着降低200w级gan-hemt器件的热阻,降至现有器件的61%(相当于表面温度降低80°c),见图4。
图4 200w级gan hemt功率放大器仿真对比
因此这种技术可以用于生产具有更高输出功率发射器的gan-hemt功率放大器。 当用于天气雷达等系统时,用于发射器的gan-hemt功率放大器可望将雷达的可观测范围提高1.5倍,这样可以更快地检测到能够产生突然暴雨的积雨云,从而为灾难做好准备。
富士通计划 富士通计划利用该技术评估gan-hemt的热阻和输出性能,并计划在2020年将其应用于高输出、高频功率放大器,应用于气象雷达和5g无线通信系统。
日本防务省提供研究资助 该研究获得了日本防务省采购、技术与后勤局(alta)设置的“安全创新科技计划”(the innovative science and technology initiative for security)。
这项研究部分得到了日本国防部收购,技术和后勤局(alta)设立的创新科技安全倡议的支持。

关于光谱共焦传感器的精密测量方案
多孔材料中电荷及物质传输的说明
Melexis推出首款第三代电流传感器芯片MLX91230
MWC2019或将是华为展示5G实力最佳平台
云主机的应用场景_云主机如何进行地区选择
日本富士通公司深度解析氮化镓高电子迁移率晶体管
关于家用光伏系统并网规范的介绍和分析
固态硬盘及显卡的散热不可或缺的导热材料
mlcc电容温度最高能达到多少_MLCC电容特性及注意事项
微信宣布与QQ钱包互通 目前仅支持微信转账QQ钱包
天津市积极落实国家战略部署 立足全国先进制造研发基地的定位
基于VHDL语言及SOPC技术实现全数字调频信号发生器的设计
余承东谈下一个五年的期待值:有望做到市场份额全球第一
最终iPhone8还是没有采用曲面屏,要情怀的果粉们可以放心了
前端开发环境介绍_前端开发环境安装与配置
【行家观点】从智能家居单品迈向下一个万亿级市场“全屋智能”
南航沈阳飞机维修基地已在多方面取得了突破性进展
关于晶圆代工的发展历程回顾和对未来的展望
关于PCB Layout的7大基准
智能家居魔镜带来的黑科技家居生活互动体验