光刻机是谁发明的
1822年法国人nicephore niepce（尼埃普斯）发明了光刻机，起初是nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕，当其出现在了玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。
虽然光刻机的发明时间较早，但却并未在行业中得到应用，直到第二次世界大战时，才被应用到印刷电路板上，在塑板上通过铜线路制作，才让电路板得到普及，然后就成为看电子设备领域中关键的材料之一。
如今，光刻机已经成为半导体生产制造的主要生产设备，也决定了整个半导体市场水平工艺的象征。
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