q1
请教一下各位大侠,一般芯片增加cp测试之后,可靠性需要重新评估么?评估哪些内容?
一般是这样子,大公司cp都要评估的,如果是新process,那cp部门要做doe,防止die crack等,但是如果是已经released的,连doe也不用做。可靠性就更不必谈了,除非是发生了问题,并且确认是cp引起的,可能需要讨论做一些可靠性与fa。
q2
谁有jesd22-a104e这个版本的标准,可以分享下吗?
q3
有人知道imc层怎么观察吗?行业内有规范吗?季丰对imc有没有相关的dpa标准?
wb站会用显微镜和软件染色来看面积,可靠性后我们会做下cross-section看imc生长
q4
各位大佬,有没有扫分层的sat资料分享一下呀?
超声波扫描显微镜sonoscan d9650,
老炼前后的对比照片,老炼后焊球的压痕还算正常吗?
如果目的是筛选的就会出货一般都是100%,目的是寿命的不出货一般是samples。
q6
什么是老炼?
国军标叫老炼,就是寿命实验的意思,就是加应力加速失效的过程。比如thb,elfr,htsl,tc,htol,……
q7
请问大家,wlcsp的 solder ball 下有passivation crack的问题,调整什么参数会有明显改善,例如可以通过更高次数的tc, solder ball 本身没有问题,这个是wlcsp封装,有rdl的。
加underfill一般会有帮助,但也不是所以情况都可以加。uf分cuf和muf,cuf在很多位置没有solder ball的情况下,即有大面积空位的情况下uf材料毛细效应弱,流不过去,会有空洞,这样加uf适得其反;muf要看这颗ic周围是不是适合做molding,周围的器件要不要一起mold起来,有些时候限制太多muf就不可能了,即使可以做muf,你也要开模具,增加一道工序,甚至要做热仿真。passivation crack 的话最好有crack位置的照片和量测数据,还有repassivation的材料和厚度,它下面rdl trace处的台阶高度,rdl trace宽度和间距等,这些信息可以帮助判断原因和提改进方法。其实这些都有design rule,逐一排查一下吧
q8
咨询一下,对于消费类电子,一般会做哪些可靠性项目?
ic类:
pkg-qual:precon, htsl, tc, uhast, bhast,
product-qual:esd(ibm.cdm), lu, htol
可以多做,不少做
q9
pkg qual与product qual的区别是?
pkg qual是面向封装,product qual是面向产品(芯片本身的设计和工艺)
q10
那product qual就不需要做precon, htsl, tc, uhast, bhast实验了么?
如果只改了芯片设计,别的都没动,可以不做。
q11
再咨询一下,这些rule适用于所有消费类ic产品嘛?比如ic+mos,这样的acdc产品,是否也适用于该可靠性rule?
一般性适用,实际分具体情况。比如,如果是nvm往往要看data retention之类。
q12
1000hrs,1000cycles,这些时间或者周期可以缩短嘛?
可以啊,等效时间不同。大致意思是,可靠性实验是以加压的方式模拟自然(典型)时间条件,加速时间和典型时间会有个换算关系,比如你看到的1000hrs等效为10年,而你的产品不必保那么久,自然可以少做点。
q13
各位大神,请教下,中测trim过的,到成品测试恢复到熔丝前了,这一般有哪些情况?trim过有烧断痕迹的,开盖后探针测试没有阻值,没有熔断。
建议先看看成品熔丝恢复的情况再做推断,通常现象是成品熔丝有细微裂缝,但是连通电路,这就可能是wt熔断的冗余度不够,在封装时受到挤压连上了,再去看wafer的熔断情况,仅供参考。
q14
请教诸位个问题啊,汽车电子aecq100中的常温、高温、低温ft测试,业界一般都怎么做呀?如果用热流罩的话,测试效率太低了,有没有啥别的好的办法呢?
三温handler,可以编程设计。
q15
请教各位大佬, 固态硬盘bga颗粒和pcb焊接有很多气泡,影响和主要改善方向有哪些?(怀疑是baseline问题)
我们出现过类似的问题,问题原因是:flux没按固定存放。
q16
咨询一个问题,工业上的ic,一般msl是要求几的?
伺服驱动器上用的ic是msl2或msl1,分立器件用的都是msl1。
q17
请问一下,在做hbm时,芯片的测试条件是所有管脚都需要上1.1倍的设计工作电压呢,还是按照设计时使用的esd管子的最大电压来做?
hbm芯片不用上电的,latch up电源管脚才说上电的,io管脚是电流。
原文标题:季丰电子ic运营工程技术知乎 – 21w50
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