在过去几年中,氮化镓 (gan) 在用于各种高功率应用的半导体技术中显示出巨大的潜力。与硅基半导体器件相比,氮化镓是一种物理上坚硬且稳定的宽带隙 (wbg) 半导体,具有更快的开关速度、更高的击穿强度和高导热性。
氮化镓晶体可以在多种衬底上生长,如蓝宝石、碳化硅 (sic)、硅 (si) 等。为了在硅上实现这种生长,仍然可以使用现有的制造基础设施,从而无需昂贵的生产场地并以低成本利用现成的大直径硅晶片。
gan-on-si具有广泛的未来应用,扩展了当前的 hemt 能力,提高了 1kw 以上的功率水平。该技术可帮助设计人员提高工作电压并将频率响应推至 ka 波段以外的 e 波段、w 波段和太赫兹空间。这篇论文由香港科技大学电子与计算机技术系的一组研究人员提交。
gan-on-si cascode 配置(600v 级)
图 1:升压转换器原理图
上图显示了具有升压转换器和快速二极管的 600v 级 gan on si 器件的应用。开关器件 q1 和升压二极管 d1 显示在电路中,伴随输入和输出电容器 c1 和 c2 以增强电压稳定性。当 q1 处于导通状态时,输入电压施加在 l1 上。当 q1 处于关断状态时,二极管 d1 将存储的能量释放到输出端。有两种工作模式——连续导通模式和非连续导通模式。在连续导通模式下,电感电流保持在零以上,在非连续导通模式下,电感完全释放其储存的能量。
具有高/低侧晶体管的桥式电路
图 2:半桥开关电路原理图
上图中,q1 和 q2 都是 gan cascode 器件。当栅极处于关闭状态时,每个器件都能够阻断反向传导电压。当栅极处于导通状态时,相应的器件提供正向和反向导电性,电压降最小。如果在开关节点u与直流或低频中间电位w之间增加电感l,则半桥可布置为升压转换器、降压转换器或直流-交流逆变器。为了提高性能,使用升压转换器进行了一项测试,该转换器使用 600 v/52-m gan 级联开关和 650 v/43 m 最先进的 si sj mosfet,针对低 q 进行了优化。在进行实验时,它观察到所有电路元件都是相同的,除了开关设备。
gan-on-si 器件的未来
它是否支持重要的新应用程序?
si 上的 gan 能够在简单的空间硬控制模式下以高频率和高功率水平运行。这在运行期间提供了低损耗,这对于未来几年的功率转换至关重要,并且还将影响伺服电机驱动器、紧凑型 ev 充电器等应用。目前,gan-on-si 用于卫星、用于自动驾驶汽车的激光雷达、增强现实系统、机器人技术等。 gan 晶体管和 ic 可在商业上获得,并且比类似的最先进的硅器件快 5 到 50 倍。
这个容易用吗?
除了性能之外,gan 晶体管的性能与当今可用的其他传统功率 mosfet 的性能非常相似。这使得电力系统工程师和其他技术人员可以更轻松地设计电路,而无需额外培训。但需要特别注意电路中的任何寄生感应。
由于 gan 器件更小,它们需要与计算机和电信设备中使用的相同的更严格的装配公差。该技术已被证明可以顺利集成到为硅 mosfet 设计的基础设施中,一旦设计和制造专业人员更加熟悉更小、更高效的 gan 器件。
是否划算?
gan晶体管的制造过程与硅功率mosfet的制造非常相似。gan 器件比硅器件小得多。因此,一次制造了更多的设备。此外,gan 晶体管是低压晶体管 (<500v),不需要像硅 mosfet 那样昂贵的封装。未来几年,随着对 gan 技术的研究将完成,设计工程师可以预期价格会进一步下降,从而使这些系统相对于传统的硅基器件具有越来越大的市场优势。
它可靠吗?
截至今天,几家 gan 晶体管制造商在内部压力测试和性能体验中报告了出色的结果。除此之外,还有大量的 gan 晶体管在实际地面应用中经历了数十亿小时的累积,证明了与硅 mosfet 相比具有更高的现场可靠性。
结论
研究人员总结说:“gan-on-si 器件技术在导通电阻、开关速度、热性能、芯片尺寸和成本方面表现出令人印象深刻的性能。“gan功率半导体的快速发展将导致电力电子子系统的进一步小型化。”
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