研究人员研发出新工艺 可以取代生产用于实现大型显示器像素的TFT的低温多晶硅

用于生产薄膜晶体管(tft)传统工艺的替代方案可促进用于电视机、智能电话、计算机和平板电脑lcd和oled显示器性能的改进。
研究人员在电子迁移率为188 cm2v-1s-1的au-si共晶合金中,在低于600℃的缓冲钠钙玻璃上生长了晶体硅薄膜。他们使用x射线衍射(xrd)、x射线光电子能谱(xps)、拉曼光谱、横截面扫描电子显微镜(sem)以及透射电子显微镜(tem)对该薄膜进行了表征。表征方法证实了在缓冲钠钙玻璃上生长的高度结晶硅连续薄膜。
研究人员表示,该工艺可以取代生产用于实现大型显示器像素的tft的低温多晶硅(ltps)。
通常使用以下三种工艺其中的一种制造tft:非晶硅(a-si:h)、低温多晶硅(ltps)、铟镓锌氧化物(igzo)。新的研究表明,有机会取代这些过程。
样品是在美国宾汉顿大学自主太阳能中心(casp)进行测试的。casp主管tara dhakal表示:“这项研究提供了一种能提高显示质量和降低成本的方法,同时也可以改善太阳能电池等电子器件的生产。”
该研究结果已经发表在了国际期刊《materials letters》上。

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