三星部署扩展EUV光刻工艺，争取提高性能
继sk海力士日前宣布在m14和建设中的m16工厂均引入euv光刻机后，三星也坐不住了。
按照三星的说法，自2014年以来，euv光刻参与的晶圆超过了400万片，公司积累了丰富的经验，也比其它厂商掌握更多诀窍，领先对手1到2年。
据悉，三星的1z nm dram第三代内存已经用上了一层euv，第四代1a nm将增加到4层。euv光刻机的参与可以减少多重曝光工艺，提供工艺精度，从而可以减少生产时间、降低成本，并提高性能。
尽管sk海力士、美光等也在尝试euv，但层数过少对效率提升并不明显，也就是单位成本高，毕竟euv光刻机买一台要10亿元。三星这方面倒是有优势，因为自己还有晶圆厂，“东方不亮西方亮”光刻机的利用率很高。
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