据说1nm光刻机已经被设计出来了，预计2022年即可商用
据日媒近日消息，imec公司（比利时的一家微电子研究机构，总部在比利时鲁汶，是一个专注于纳米科技的世界级研究中心）在itf japan 2020大会上公布了3nm、2nm、1．5nm以及1nm以下的逻辑器件小型化路线图。
根据imec首席执行官兼总裁luc van den hove透露，imec公司与asml紧密合作，将推进下一代高分辨率euv光刻技术商用。目前，asml已完成作为nxe：5000系列的高na euv曝光系统的基本设计，将应用于1nm光刻机，预计2022年即可商用。
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