台积电2nm再曝新进展 2nm比3nm速度快多少
最近，台积电和三星电子在2nm制程方面动作不断。
有新闻报道，日本将和美国合作，最早于2025年在日本启动2nm制程国内制造基地。
同时，台积电预计将在2024年年底和2025年进行2nm制程的风险试产，同时还透露，通过在中国台湾、中国大陆和日本建设新晶圆厂或扩产，预计到2025年，台积电的成熟制程的产能将扩大约50%。三星电子则同样计划在2025年实现2nm的量产。
台积电表示相较于其n3e（3nm的低成本版）工艺，在相同功耗下，台积电2nm工艺的性能将提升10~15%；而在相同性能下，台积电2nm工艺的功耗将降低23~30%；晶体管密度仅提升了10%。
三星的计划，3nm gaa工艺预计会在6月份就试验性量产，相比5nm工艺，该工艺的性能提升15%，功耗降低30%，芯片面积减少35%。
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