俄罗斯签署合同欲研发顶尖X射线光刻机
在半导体的制造中，光刻机作为其中重要的组成部分，其技术非常复杂，价格也十分昂贵。
由于近期冲突，俄罗斯芯片进口遭严重限制，在其国内没有光刻机的情况下，俄罗斯贸工部选择了与俄罗斯莫斯科电子技术学院签署一份6.7亿卢布的合同来研发光刻机，并且宣称要研发比euv光刻机光刻分辨率更高、不需要光掩膜版从而降低费用的无掩模x射线光刻机。
x射线光刻机不同于euv光刻机，它使用了波长为0.01nm~10nm的x射线，所以x射线光刻机的光刻分辨率要比euv光刻机高很多。
综合整理自 快科技 站长之家 芯智讯
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